光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化持續(xù)突破 多家公司股票競(jìng)相漲停

    本報(bào)記者 陳紅

    9月18日，光刻機(jī)概念股爆發(fā)。同飛股份、波長(zhǎng)光電均迎來(lái)20cm漲停；海立股份、張江高科、京華激光、凱美特氣、奧普光電等均漲停；新萊應(yīng)材、藍(lán)英裝備等漲幅超10%。

    光刻機(jī)為何持續(xù)火熱？“光刻機(jī)之所以成為市場(chǎng)關(guān)注的焦點(diǎn)，主要由于其在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的核心地位以及技術(shù)門(mén)檻的高度。隨著科技的不斷進(jìn)步，半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)高精度、高效率的光刻機(jī)需求日益增加，使得光刻機(jī)成為衡量一個(gè)國(guó)家科技實(shí)力的重要標(biāo)志。”福建華策品牌定位咨詢(xún)創(chuàng)始人詹軍豪對(duì)《證券日?qǐng)?bào)》記者表示，隨著近日國(guó)家指導(dǎo)目錄將光刻機(jī)納入重點(diǎn)發(fā)展對(duì)象，這一政策信號(hào)極大地提振了市場(chǎng)信心。

    光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化持續(xù)突破

    消息面上，為促進(jìn)首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用，加強(qiáng)產(chǎn)業(yè)、財(cái)政、金融、科技等國(guó)家支持政策的協(xié)同，工信部近日印發(fā)《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》。

    目錄顯示，中國(guó)已經(jīng)成功研發(fā)了氟化氪光刻機(jī)、氟化氬光刻機(jī)等。其中，氟化氬光刻機(jī)光源波長(zhǎng)193納米，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm的核心指標(biāo)引發(fā)業(yè)內(nèi)關(guān)注。

    上述指標(biāo)對(duì)行業(yè)發(fā)展有何意義？中國(guó)電子商務(wù)專(zhuān)家服務(wù)中心副主任、資深人工智能專(zhuān)家郭濤對(duì)《證券日?qǐng)?bào)》記者表示：“目前，氟化氬光刻機(jī)已具備65納米以下的分辨率和8納米以下的套刻精度，該光刻機(jī)大概可以量產(chǎn)28納米工藝的芯片。這標(biāo)志著中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了重要突破，未來(lái)有望達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。”

    與此同時(shí)，上海微電子近日也更新了一則動(dòng)態(tài)，其公開(kāi)了名為“極紫外輻射發(fā)生裝置及光刻設(shè)備”的發(fā)明專(zhuān)利，內(nèi)容涉及極紫外輻射（EUV）發(fā)生裝置及光刻設(shè)備。

    據(jù)悉，EUV是一種使用波長(zhǎng)為13.5納米的極紫外光作為光源的下一代光刻技術(shù)，技術(shù)難點(diǎn)在于光學(xué)系統(tǒng)、光源等關(guān)鍵子系統(tǒng)，其廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中。

    記者了解到，光刻機(jī)技術(shù)的持續(xù)突破，對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)生了積極的推動(dòng)作用。中國(guó)企業(yè)資本聯(lián)盟中國(guó)區(qū)首席經(jīng)濟(jì)學(xué)家柏文喜對(duì)《證券日?qǐng)?bào)》記者表示：“光刻機(jī)技術(shù)的突破，不僅表明了國(guó)家對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備自主可控的重視，也為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備制造商提供了市場(chǎng)機(jī)遇。通過(guò)政策的支持和市場(chǎng)的拉動(dòng)，可促進(jìn)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展和應(yīng)用，減少對(duì)外部技術(shù)的依賴(lài)，增強(qiáng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的整體競(jìng)爭(zhēng)力。”

    民生證券在研報(bào)中亦認(rèn)為，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)亦在持續(xù)突破，利好半導(dǎo)體設(shè)備自主可控的長(zhǎng)期發(fā)展，繼續(xù)看好國(guó)內(nèi)晶圓廠(chǎng)的投資增長(zhǎng)和國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化機(jī)遇。

    多家公司研發(fā)成果顯著

    據(jù)了解，光刻機(jī)是生產(chǎn)芯片的核心裝備。光刻機(jī)技術(shù)極為復(fù)雜，在所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高，主要涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)。

    近年來(lái)，波長(zhǎng)光電、騰景科技、凱美特氣、茂萊光學(xué)、炬光科技及京華激光等相關(guān)公司均在光刻機(jī)領(lǐng)域持續(xù)加大研發(fā)投入，并取得顯著成果。

    例如，波長(zhǎng)光電表示，今年上半年，公司光刻機(jī)平行光源系統(tǒng)可用于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)領(lǐng)域配套，并已交付多套系統(tǒng)。

    騰景科技稱(chēng)，公司在研“合分束器”項(xiàng)目，主要應(yīng)用于光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)。該項(xiàng)目屬于定制化產(chǎn)品開(kāi)發(fā)項(xiàng)目，相關(guān)產(chǎn)品正在驗(yàn)證中。

    炬光科技會(huì)根據(jù)客戶(hù)的不同型號(hào)需求，匹配不同波長(zhǎng)的光場(chǎng)勻化器。目前，公司相關(guān)產(chǎn)品已經(jīng)用于KrF、ArF、ArF浸沒(méi)式等DUV光刻機(jī)。

    作為光刻機(jī)的血液，凱美特氣生產(chǎn)芯片所需的超高純氣體和光刻氣產(chǎn)品已通過(guò)多個(gè)國(guó)際頭部企業(yè)的相關(guān)認(rèn)證或?qū)徍?，并建立合作?/p>

    柏文喜認(rèn)為：“目前，中國(guó)光刻機(jī)已取得了一定的進(jìn)展，但與國(guó)際先進(jìn)水平相比，仍有提升空間。國(guó)內(nèi)企業(yè)需要在光源技術(shù)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù)上持續(xù)投入和研發(fā)，以提高國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)水平和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。”

    面對(duì)光刻機(jī)概念的暴漲，郭濤認(rèn)為：“投資者應(yīng)深入了解公司的技術(shù)研發(fā)實(shí)力、市場(chǎng)表現(xiàn)和財(cái)務(wù)狀況等因素，避免盲目跟風(fēng)投資而遭受損失。同時(shí)，要警惕市場(chǎng)過(guò)度炒作，理性看待光刻機(jī)概念的投資價(jià)值。”

（編輯 閆立良）