刻蝕設(shè)備國貨之光 中微公司2019年凈利潤倍增

    本報記者 劉會玲

    4月17日，中微公司披露2019年年度報告。期內(nèi)，公司實(shí)現(xiàn)營收19.47億元，同比增長18.77%；歸屬于上市公司股東的凈利潤1.89億元，同比增長107.51%，利潤倍增。

    刻蝕設(shè)備在“芯”中的重要角色

    當(dāng)天公司舉行了線上業(yè)績說明會，公司董事長、總經(jīng)理尹志堯、董事會秘書、副總裁劉曉宇、財務(wù)負(fù)責(zé)人、副總經(jīng)理陳偉文出席。

    “長期以來，公司一直致力于打造具有國際競爭力的產(chǎn)品并進(jìn)行多元化產(chǎn)品布局。”尹志堯表示。在設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計和制造中，公司重視核心技術(shù)、產(chǎn)品創(chuàng)新及知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)，始終強(qiáng)調(diào)技術(shù)先進(jìn)性、創(chuàng)新、差異化和服務(wù)。

    提及刻蝕設(shè)備行外人可能不了解是什么。60年來從電子計算機(jī)到智能手機(jī)-微觀器件加工面積縮小了一萬億倍，而半導(dǎo)體設(shè)備的創(chuàng)新和進(jìn)步就是實(shí)現(xiàn)這個萬億倍縮小的關(guān)鍵。在這個環(huán)節(jié)中最重要的就是加工微觀結(jié)構(gòu)的光刻機(jī)和等離子刻蝕機(jī)。

    換言之，256G手機(jī)回到50年前，相當(dāng)于5層樓？是200萬棟5層樓。1950S-128K毫米級計算機(jī)通過光刻機(jī)以及刻蝕設(shè)備對芯片微觀結(jié)構(gòu)的調(diào)整縮小100萬倍相當(dāng)于1980S-128K微米級集成電路元件。通過不斷的技術(shù)創(chuàng)新再縮小100萬倍就相當(dāng)于2010S-128G納米級集成電路元件。

    參股具有協(xié)同效應(yīng)潛力項目

    據(jù)悉，中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已應(yīng)用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米的集成電路加工制造生產(chǎn)線及先進(jìn)封裝生產(chǎn)線。公司的MOCVD設(shè)備在行業(yè)領(lǐng)先客戶的生產(chǎn)線上大規(guī)模投入量產(chǎn)，公司已成為世界排名前列的氮化鎵基LED設(shè)備制造商。

    根據(jù)2019年美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)咨詢公司VLSIResearch對全球半導(dǎo)體設(shè)備公司的“客戶滿意度”調(diào)查和評比報告，中微公司綜合評分保持全球第三，并在芯片制造設(shè)備專業(yè)型供應(yīng)商和專用芯片制造設(shè)備供應(yīng)商評比中均名列第二，同時，全球晶圓制造設(shè)備商評級為五星級公司僅有五家，中微公司是其中之一。

    “公司在今后的十年將采取三個維度的發(fā)展策略。公司計劃繼續(xù)通過有機(jī)生長，在不斷開發(fā)新的產(chǎn)品，不斷提高市場占有率的同時，將在適當(dāng)時機(jī)，通過投資、并購等外延式生長途徑，擴(kuò)大產(chǎn)品和市場覆蓋。力爭在未來十年內(nèi)，發(fā)展成為在規(guī)模上和市場占有率上成為國際一流的半導(dǎo)體設(shè)備公司。”尹志堯表示。

    第一個維度是從目前的等離子體刻蝕設(shè)備，擴(kuò)展到化學(xué)薄膜設(shè)備，和刻蝕及薄膜有關(guān)的測試等關(guān)鍵設(shè)備。第二個維度是，擴(kuò)展在泛半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的產(chǎn)品，從已經(jīng)開發(fā)的用于制造MEMS和CIS影像感測器的刻蝕設(shè)備、制造藍(lán)光LED的MOCVD設(shè)備，擴(kuò)展到更多的微觀器件加工設(shè)備，及制造深紫外LED、Mini-LED、Micro-LED等微觀器件的設(shè)備產(chǎn)品。第三個維度是探索核心技術(shù)在環(huán)境保護(hù)、工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域，以及在國計民生上的新的應(yīng)用。

    據(jù)介紹，目前，中微公司同時兼顧外延性發(fā)展，子公司中微匯鏈、中微惠創(chuàng)在新業(yè)務(wù)拓展領(lǐng)域取得了積極的進(jìn)展。此外，公司也參股投資了一些具有協(xié)同效應(yīng)潛力的項目。

    值得一提的是，公司創(chuàng)始人尹志堯在半導(dǎo)體芯片和設(shè)備產(chǎn)業(yè)有超過30年的行業(yè)經(jīng)驗，是國際等離子體刻蝕技術(shù)發(fā)展和產(chǎn)業(yè)化的重要推動者之一。公司其他聯(lián)合創(chuàng)始人、核心技術(shù)人員和重要的技術(shù)、工程人員，包括杜志游、倪圖強(qiáng)、麥?zhǔn)肆x等各專業(yè)領(lǐng)域的專家，其中很多是在國際半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)耕耘數(shù)十年，為行業(yè)發(fā)展做出杰出貢獻(xiàn)的資深技術(shù)和管理專家。

    “刻蝕是半導(dǎo)體生產(chǎn)流程的重要環(huán)節(jié)，設(shè)備國產(chǎn)化對于半導(dǎo)體國產(chǎn)替代不可或缺。但是刻蝕設(shè)備屬于技術(shù)高度密集型產(chǎn)品，目前國內(nèi)外的產(chǎn)品技術(shù)還是有一定差距的。”香頌資本執(zhí)行董事沈萌分析道。

    資深投行人士王驥躍在接受《證券日報》記者采訪時表示，“中微公司的上市有利于其自身發(fā)展，也有利于國內(nèi)產(chǎn)業(yè)發(fā)展，技術(shù)進(jìn)步才能減少對外依賴，減少‘卡脖子’的事發(fā)生。”

（編輯 張偉 上官夢露）